Segondè pite Titàn Sputtering objektif

Segondè pite Titàn Sputtering objektif

1. Inovasyon Nwayo: Redefini Pite & Pèfòmans​

• Non pwodwi: Objektif pite Titàn ultra-wo-(klas Gr1-Gr12)
• Pite Benchmark:
• Kontni Titanium: Pi gran pase oswa egal a 99.95% (ASTM B348)
• Kontwòl enpurte: <0.02% (O, N, C ≤0.005%; Fe ≤0.01%)
• Dansite: 4.51 g/cm³ (±0.02)
• Poukisa sa enpòtan:
• Entegrite fim: Sub-ppm impurity levels eliminate voids and inclusions, ensuring uniform film thickness (±2%) and adhesion strength (peel test >50 MPa).
• Estrikti grenn: 50–100 μm grenn ekivaks (SEM-verifye) diminye arcing ak amelyore estabilite pousantaj sputtering pa 30%.
• Teknik Edge:
• Vacuum Endiksyon k ap fonn: 99.999% pite materyèl fonn anba vakyòm 10⁻³ Pa.
• Peze izostatik cho (HIP): 1,200 degre / 200 MPa tretman pou fèmen porositë<5 μm.
• CNC Precision D': Tolerans ± 0.05 mm pou dimansyon kritik (egzanp, epesè sib).

2. Aplikasyon-Solisyon Espesifik yo​

2.1 Semiconductor Faktori​

Kouch wafer: Gr1 (99.5% Ti) objektif pou kouch dielectric pòtay (koòdone oksid / nitrure).

Etid ka: Redwi kontaminasyon patikil pa 80% nan sputtering wafer 300mm.

2.2 Kouch optik​

Anti-Fim Reflektif: Gr5 (Ti-6Al-4V) objektif pou optik UV/IR (kontwòl endèks refraktif: n=2.2-2.6).

Lantiy UV-C: Reyalize 99.8% transmisyon nan ranje 200-400 nm.

2.3 Depo enèji​

Batri eta solid-: Gr7 (Ti-0.2Pd) objektif pou koòdone solid-elektwolit (konduktivite iyonik: 10⁻³ S/cm).

2.4 Elektwonik avanse​

Sikui fleksib: Gr12 (Ti-0.3Mo-0.8Ni) objektif pou liy kondiktè extensible (tolerans souch: 300%).

3. Asirans Kalite & Konfòmite​

Sètifikasyon:

• ISO 9001: Trasabilite konplè soti nan matyè premyè rive nan pwodwi fini.
• ASTM B381: Idwojèn embrittlement rezistans<200 kPa.
• RoHS/REACH: <100 ppm restricted substances.

Pwotokòl tès yo:

Baj popilè: segondè pite Titàn sputtering objektif, Lachin, manifaktirè, Swèd, faktori, Customized, pri ki ba, nan stock, te fè nan peyi Lachin